ଆଣବିକ ବିମ୍ ଏପିଟାକ୍ସି ଏକ ଉଚ୍ଚ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନ କିମ୍ବା ଅଲ୍ଟ୍ରା-ହାଇ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନରେ କରାଯାଇଥିଲା (1 x 10^-8ପା) ପରିବେଶ। ଆଣବିକ ବିମ୍ ଏପିଟାକ୍ସିର ସବୁଠାରୁ ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଦିଗ ହେଉଛି ଏହାର କମ୍ ଜମା ହାର, ଯାହା ସାଧାରଣତଃ ଫିଲ୍ମକୁ ଘଣ୍ଟା ପ୍ରତି 3000 nm ରୁ କମ୍ ହାରରେ ଏପିଟାକ୍ସିଆଲ୍ ବୃଦ୍ଧି କରିବାକୁ ଅନୁମତି ଦିଏ। ଏପରି କମ୍ ଜମା ହାର ପାଇଁ ଅନ୍ୟ ଜମା ପଦ୍ଧତି ପରି ସମାନ ସ୍ତରର ପରିଷ୍କାରତା ହାସଲ କରିବା ପାଇଁ ଯଥେଷ୍ଟ ଉଚ୍ଚ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନ ଆବଶ୍ୟକ।

ଉପରେ ବର୍ଣ୍ଣିତ ଅତ୍ୟଧିକ ଉଚ୍ଚ ଭାକ୍ୟୁମ୍ ପୂରଣ କରିବା ପାଇଁ, MBE ଉପକରଣ (Knudsen କୋଷ) ରେ ଏକ ଶୀତଳ ସ୍ତର ଅଛି, ଏବଂ ବୃଦ୍ଧି ଚାମ୍ବରର ଅତ୍ୟଧିକ ଉଚ୍ଚ ଭାକ୍ୟୁମ୍ ପରିବେଶକୁ ତରଳ ନାଇଟ୍ରୋଜେନ୍ ସଞ୍ଚାଳନ ପ୍ରଣାଳୀ ବ୍ୟବହାର କରି ବଜାୟ ରଖିବାକୁ ପଡିବ। ତରଳ ନାଇଟ୍ରୋଜେନ୍ ଡିଭାଇସର ଆଭ୍ୟନ୍ତରୀଣ ତାପମାତ୍ରାକୁ 77 କେଲଭିନ୍ (−196 °C) ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଥଣ୍ଡା କରିଥାଏ। ନିମ୍ନ ତାପମାତ୍ରା ପରିବେଶ ଶୂନ୍ୟରେ ଅଶୁଦ୍ଧତାର ପରିମାଣକୁ ଆହୁରି ହ୍ରାସ କରିପାରିବ ଏବଂ ପତଳା ଫିଲ୍ମ ଜମା କରିବା ପାଇଁ ଉତ୍ତମ ପରିସ୍ଥିତି ପ୍ରଦାନ କରିପାରିବ। ତେଣୁ, -196 °C ତରଳ ନାଇଟ୍ରୋଜେନ୍ ର ନିରନ୍ତର ଏବଂ ସ୍ଥିର ଯୋଗାଣ ପାଇଁ MBE ଉପକରଣ ପାଇଁ ଏକ ଉତ୍ସର୍ଗୀକୃତ ତରଳ ନାଇଟ୍ରୋଜେନ୍ ଶୀତଳୀକରଣ ପ୍ରଣାଳୀ ଆବଶ୍ୟକ।